● 구입가격

 

● 시설장비 구성 및 성능
-Main Control 부 : Window base Software 구성, recipe 편집 기능, history 관리 기능등
-Gas 공급 부 : MFC, Air valve, Gas filter 등 Furnace 노 내에 Gas 자동 제어 시스템
-Heater 부 : 고온 Heater 탑재 (최대 상승 온도 : 1100도) 3zone control, 자동 온도 보정 기능
-Loader 부 : 6인치 웨이퍼를 자동 Loading 할 수 있도록 구성

 

● 활용분야
-반도체 웨이퍼 조립 라인에서 사용
-실리콘 반도체 공정단계 중 열확산 방식에 의한 공정이며 Annealing 공정을 할 수 있는 장비
-반도체장치 제조용 급속 열처리장비로서, 보다 상세하게는 열처리되는 웨이퍼의 온도를 측정할 수 있는 측정장치를 구비하는 열처리 공정장비             

 

● 기기사용 중 본인 부주의로 인한 고장은 책임지고 보상해야함.

 

● 미래창조관 101호

 

● 장비담장자 ☎043-211-3915